MOCVD过滤器技术壁垒与创新方向‌

    MOCVD过滤器作为半导体制造中的关键耗材，其技术壁垒与创新方向正随着行业需求升级而快速演进，主要呈现以下发展态势：

   ‌材料耐受性ji限‌：需承受TEAL等活hua剂腐蚀及1200℃高温环境，传统PP滤材在连续工作500小时后性能衰减达40%，而采用铼金属加热片的过滤器可实现5000小时无蠕变，温控精度±0.5℃‌。当前国产玻璃纤维滤芯在抗TEAL腐蚀性上仍落后进口产品30%以上‌。

   ‌精mi过滤能力‌：3D NAND芯片制程进入200层时代后，要求过滤器截留效率达99.9999%，耐压性能超过10bar。梯度孔径设计的折叠滤芯通过分级过滤可将寿命延长2倍，但国产6片机设备在均匀性控制上与进口片机存在代差‌。文章来源MOCVD过滤器http://www.galthe.com/。